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RLP
改性陽離子季銨鹽，堿性鍍鋅強整平光亮劑，鍍層展現非常油亮，結晶特別細膩，高電流區防燒焦消霧劑。
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GLP
水溶性陽離子季銨鹽，堿性鍍鋅整平光亮劑，高電流密度區晶粒細化劑，耐高溫性能特佳。
WP
季銨鹽化合物。使高低區整體電流效率提升，同時具有良好的分散性能， 使高低區厚度均勻，使鍍層更光亮，解決 WT 對鍍層消光的作用，是裝飾與功能共具備的堿鋅中間體。
WT
二氨基脲聚合物，提高堿性無氰鍍鋅溶液的分散性能使鍍層高低區厚度均勻。
NTS
多胺高分子聚合物。特效絡合抗雜、水質凈化劑，帶有促進走位效果， 并使電流效率提高、鍍層結晶細化光亮均勻。
ZTPS
改性藜蘆醛甲基加成物，提高電流效率使鍍層亮度厚度均勻。
PTS
多胺高分子聚合物。絡合銅、鐵、鉛重金屬雜質等，促進低區走位效果較佳，正常消耗為25～75ml/KAH，看鍍槽雜質程度。
166W
水質凈化，提高電流效率，能改進鍍層清亮度，讓鍍層更油感， 均鍍更好，抗雜性能優越，同時促進低電流密度區走位，絡合鈣鎂離子、氯離子，消除高區 發霧效果顯著。
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